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問答題
【論述題】簡述常規(guī)熱氧化辦法制備SiO2介質薄膜的動力學過程，并說明在什么情況下氧化過程由反應控制或擴散控制。
答案：
迪爾-格羅夫氧化模型可以很好地預測氧化層厚度，熱氧化過程主要分為以下三個過程：（1）氧化劑從氣體內部以擴散形式穿過滯留層...
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問答題
【論述題】簡述雜質在SiO2的存在形式及如何調節(jié)SiO2的物理性質。
答案：
熱氧化層中可能存在各種雜質，某些最常見的雜質是與水有關的化合物，其結構如圖所示。如果氧化層在生長中有水存在，一種可能發(fā)生...
