A.塑料 B.玻璃 C.金屬
A.管帽變形 B.鍍金層的變形 C.底座變形
常壓化學(xué)氣相淀積(APCVD., 低壓化學(xué)氣相淀積(LPCVD., 等離子體輔助CVD。
晶體機構(gòu)中質(zhì)點排列的某種不規(guī)則性或不完善性。又稱晶格缺陷。
A.小于0.1mm B.0.5~2.0mm C.大于2.0mm
A.越不容易受 B.越容易受 C.基本不受
A.80%~90% B.10%~20% C.40%-50%
A.化學(xué)刻蝕機理 B.物理刻蝕機理 C.物理的濺射刻蝕和化學(xué)的反應(yīng)刻蝕相結(jié)合